为什么中国不举全国之力来做芯片?
中国芯片要崛起,除了光刻机外,还有多少短板要补?
中国芯崛起,可能是最近这一两年以来最火热的话题了,尤其是在前年的中兴事件、去年的华为事件,以及今年的华为芯片禁令升级事件这三件事的引爆之下。 很多人认为,目前中国芯片最大的困境可能是光刻机,毕竟在芯片的制造过程中,光刻是最重要的部分,但尖端
今天无意看到有小伙伴问这个问题,说明大家真的是恨透了“被卡脖子”。我相信没有人愿意把命运交由他人掌控。
那么针对这个问题,我在这里也说一下理由表达一下自己的观点供大家了解和参考。
一,中国芯片起步晚,集成电路没有产业支撑,主导理念有分歧是导致无法达成统一的历史原因。
1947年美国贝儿实验室发明了半导体点触式晶体管。到1956年中国才制造成了第一根硅单晶,早期计算机是分立元件(电子管,晶体管)做的,那时候中国还可以跟随国外的计算机技术。但是后面集成电路发展到大规模集成电路时,中国没有集成电路的产业支撑,追赶乏力。
另外我们从理念上说,在很多方面,我们希望能通过更省事的办法解决问题,所谓造不如买,买不如租就是这个时候提出的。实践证明,核心技术是买不来的,也必须通过一代代人的不断积累和奋斗,踏踏实实的追赶。这个意识也拖缓了芯片的发展脚步,让我们也付出了巨大的时间成本。
二,芯片需要高精尖产业链的配合,不是一国可以搞定,芯片投入需要长时间的“冷板凳”,巨大的投入可能溅不起一丝水花。
芯片包含设计,制造和封装。芯片设计领域和封装,我们做的不错。中国在设计方面的短板是在设计工具方面。芯片设计需要依赖电子设计自动化工具(EDA),这一工具使设计者可以使用计算机进行逻辑编译,化简,分割,综合,优化,布局,布线和仿真等工作,从而完成芯片设计。但是在这块的3家软件服务商是3家美国的公司。
我们最大头的差距是在芯片制造领域。芯片制造领域包括制造工艺和制造装备两个方面。芯片制造听起来像传统制造,但是其制造工艺和装备的精密要求远远超过后者。具体工艺又包括,光刻,刻蚀,离子注入,薄膜生长,抛光,金属化,扩散,氧化等。而与上述工艺对应的是200多种关键制造装备,包括光刻机,刻蚀机,清洗机,切割减薄设备,分选机以及其他工具所需要的扩散,氧化清洗设备等。每种装备的制造技术要求都很高,制造难度大且价格高昂。
美国制裁,中国芯片还有多长的路要走
一旦台积电向我们断供,中国大陆芯片的真实现状就是,落后西方5-10年,甚至更多。 芯片生产大致分芯片设计、芯片制造、芯片封测三大环节。 芯片设计的工具,用的是国外的EDA软件,就连中国最好的芯片设计公司华为海思,也只是刚刚开始“去美国化”。 全球最大
有了这些设备还不够,还要开生产线,建厂,制定经营计划,而且建厂和设备的安装和调试就需要2-3年的时间。而芯片设计更新迭代又特别迅速,等设备和厂真正能投产时候是否能满足市场需求也尚且不知。
在材料方面,芯片制造所需的材料大部分都需要进口,有的材料比如光刻胶则完全需要进口。国产材料的销售规模占全球销售的不足5%。这块与美国确实存在较大的差距,有专家评估,我们夜以继日的不断攻克难题不断追赶,也至少需要一二十年的时间,这还没考虑未来国际形势可能的变化。
可见,难度大,投入高,风险巨大,收益慢都限制了社会资源的集中化。这是历史原因,也是大家的现实原因。
三,实践证明,核心技术必须自强,在复杂社会环境下,必须自立,才能不受制于人,才能真正掌控自己的命运。
从历史来看,受到巨大挑战之后往往都是跨越式的发展,换句话说,每一次的困难都是我们踏上更高山峰的踏脚石。美国技术的封锁是源于对中国科技崛起的恐惧,这也正说明,中国正在崛起,崛起和强大都会是必然,只是眼下,我们需要踏踏实实一步一步的努力。换句话来说,我们的命运一定是掌握在我们自己手中,为此我们也一定会做出最大的努力。我们普通人都能看到这个问题,国家怎么可能看不到。一定会出重要举措来拉动社会资源朝着这个重要的方向努力,突破城墙,占领制高点。
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