决定芯片质量的光刻机，在美国封锁关头能否取得进展？

自特朗普上任以来，美国与我国的技术交流大大减少，且作为商人的特朗普一直针对我国科技公司的发展，而作为听从美国的好盟友，欧美国家对我国的科技封锁也在不断加强。虽然我国的科技水平已经在不断提高并在很多领域都打破了西方国家的垄断，但在最为关键、最为核心的芯片制造领域，我国一直得不到太大的突破。光刻机作为我国攻克芯片制作的短板，长期以来，我国只能依赖国外进口，这导致我国每年都要花上几万亿元来进口芯片。

光刻机对于芯片制作极其重要，它决定了芯片的制程与质量，但为什么我国一直无法进行技术突破呢？我国的光刻机制造水平有达到了怎样的程度呢？它与国外的技术水平差距有多大呢？

据资料显示，我国的上海微电子自2002年成立至今，虽早在07年已经成功研发了我国第一台90nm的光刻机，但此后却一直无法有大突破。这与国外的28nm以上的光刻机差距甚大。虽然我国研发光刻机已有十几年，但是所获成就实在有限。

这到底是为什么呢？首先，光刻机这种技术研究所需投资极大，但却很难在短期内得到回报，稍有不慎，就会竹篮打水一场空。这就导致了没有资本愿意大量投入进行研究。其次，光刻机研究技术难度极大，我国国内的科研人才目前还是比较缺少的，而西方国家又不遗余力的阻止我国的科研技术水平提高，进行了技术封锁与技术垄断，这对我国想要研发更高难度的光刻机产生了巨大的阻力。像我国华为这种以技术研发为主的公司就在国外被以美国带头的西方国家进行欺压、打压，到如今，“孟晚舟”事件还是没能有个好结果。

国产芯片制造，产业链关键环节都在这里了

国产芯片制造产业处于落后状态，这是毋庸置疑的事实，当然也没有必要妄自菲薄，依照现有的条件，努力进行科研攻关，争取获得更大的突破就非常关键。 中芯国际 现在扛起国产芯片制造大梁的企业是中芯国际，14纳米的工艺制程，已经可以满足我们绝大多数的芯片制

虽有万般困难，但中华民族向来就不会轻易的低头。据最新消息，上海微电子有望在2021年交付我国首台28nm光刻机，虽说这与目前世界最新的7nm芯片制备工艺仍有较大差距，但这仍然是中华人民在不断进步，不断缩小与国际之间差距的证明。相信在不远的未来，我国能不断攻克技术难点，追上国际科技发展的脚步甚至一举超越成为科学技术最发达的国家之一。

不怕功夫深，铁杵磨成针。只要坚持不放弃，奋起直追，力挽狂澜，领跑西方科技的日子指日可待。