“反扑”已然开始?中国芯片界正式宣布,日本措手不及
深度:国产芯片,什么时候才不会被卡脖子?
本文前言: 今天黑马想与你们讲述一个故事,这个故事曲折、艰难,有汗水、有拼搏,有你们所熟悉的人,也有你们所不熟悉的事。回首这个故事,希望有些人和事,我们能够有所了解,也希望过去的错误,我们不再犯,未来我们能走的更好。这个故事,名为——中国的
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华为掀起的浪潮
华为在最近的三年时间里,受到了美国方面的打压,尤其是在今年的5月份,直接瞄准华为的软肋下手——芯片。还记得5月15美国新禁令下来的时候,华为紧急下单,连夜给台积电要了7个亿的芯片产能,同时还有要求韩国的三星和SK海力士稳定供货。
从那时候开始,华为跟特朗普的斗争已经是到了白热化的阶段,但是回过头一看,华为被压制得死死的,华为有设计高端芯片的能力,但是设计用的软件是美国的,想要把芯片真真正正地做出来,需要美国的设备和技术。芯片用的底层设计也是国外的。
华为被特朗普吃得死死的,但是华为掀起了一股浪潮,中国的半导体受到瞩目,尤其是芯片开发,像什么中芯国际,基金投资拿到手软,华为自己一方面也在研究技术,几乎有抱负的科技公司都在往半导体行业的上游靠近。
不得不说,华为虽然被打压,但是华为老总任正非的几次电视采访,让国人了解中国半导体的现状,甚至为国产手机品牌正了名,许多人才知道:嗷呼~~原来华为这么厉害。华为掀起了一股浪潮——中国半导体行业必须把握核心技术,反击外国的断供威胁。
“反扑”已然开始
在这种情况下,中国的多家研究机构纷纷有所动作,这一点是很难的,因为有《瓦森纳协定》限制我国的高科技发展,对华高科技出口管制,基本上要获取外国的高新技术只能是打打擦边球。
但是中国的芯片界在今年还是传出了不少的好消息:
首先是上海微电子在光刻机制造上超越了日本。众所周知,光刻机目前只有两个玩家,一个是荷兰,另一个就是日本,但是日本跟荷兰的差距一个是天上,一个是地上。但是这次中国的光刻机制造技术超过了日本还是相当不错的,现在上海微电子已经可以制造用于生产28nm芯片的光刻机了,尽管离5nm工艺的还有很大的差距,光刻机的光源也不是最先进的极紫外光,而是ArF。
挖角联发科大将,OPPO自研芯片大跃进
作者:时代财经 覃毅 图片来源:图虫创意 据集微网和《日经亚洲评论》等媒体报道,OPPO正在加紧设计自己的手机芯片,包括从其供应商挖来顶尖工程人才。业内消息更进一步透露,联发科手机芯片大将李宗霖日前已经加入OPPO。 据了解,李宗霖原任联发科无线通讯事
另外一个就是江苏的南大光电,南大光电是光刻胶,在芯片加工的过程中,在硅晶圆上要涂抹一层光刻胶,然后进行其他的曝光,这个东西基本上掌握在日本人手里,我们自己只能生产一些低端芯片制造用的光刻胶。
像上海微电子制造出来可以生产28nm芯片的ArF光源光刻机,就是需要用193nm的ArF光刻胶,但是在此之前没有一家中国企业能够生产,就更别提EUV光源的光刻机用到的EUV光刻胶了,不过我国也没有EUV光刻机,这个不急。
南大光电研制出来的这个ArF光刻胶跟上海微电子的ArF光刻机相互搭配简直是让日本人措手不及。
总结
这下日本真的是措手不及,几年前已经在GDP上超越了日本,成为了世界第二大经济体。不仅如此,中国在航天、交通、超级计算机上也超越了日本,而现在,日本连光刻机制造技术都被我国超越,光刻胶的垄断也将被南大光电破。
如今日本剩下的优势,就是民用工业,如汽车发动机之类,但是很多都无关技术问题,而是成本控制问题,因为民用面向的是消费者,而不是企业。
同时,据传我国的长江存储成功开发出了128层的3D NAND芯片,这个层数指的是电路板集成了多少,像一般的电脑主板都是8层,长江存储对于我国打破韩国三星、sk海力士的垄断有积极的意义。
让我们期待国内有更多的企业打破美国的技术封锁,助力华为反击。
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