中国半导体“弯道超车”？

自从华为被制裁了以后，国人也纷纷关注起了中国的半导体行业。回顾中国的半导体行业真是十分不易，西方一直在高新技术上打压中国，其中有一份《瓦森纳协定》，中国是不可能从西方的手里买到高新技术设备的。

但是多亏了中国台湾省的张汝京先生，2000年左右自筹资金，带领科研团队，利用自己在美国的人脉拿到了美国的许可证，购进了一批半导体设备，在中国的上海建立了一家公司，叫中芯国际。

无奈张汝京先生因为是中国台湾人士，被多次处罚，最终是出走中芯。但是不管怎么样，年轻的中国半导体产业总算是起步，到发展了二十年，但是在芯片制造的整个环节，跟西方最先进的水平还差了二十年左右。

可是随着国家大基金等不计成本地投入，似乎取得了不小的进步。比如上海微电子可以制造出用于生产28nm的光刻机，光刻机制造技术赶超了日本佳能；江苏南大光电生产的193nm的ArF光刻胶。

最重要的是中微研发5nm的蚀刻机器成功，所以有很多人都在说中国的半导体“弯道超车”，但是真的是这样吗？

理想很美好，现实很骨感

首先是上海微电子的光刻机，虽然赶超了日本佳能，跟日本的尼康处于同一水平，但跟最先进水平的荷兰阿斯麦（ASML）的差距还是巨大；阿斯麦制造出来的最先进的光刻机，目前可以生产5nm的芯片，制程工艺提升还能制造2nm、3nm的芯片。

其次就是光刻胶，江苏的南大光电还是很了不起的，制造出了用于ArF光源的光刻胶，直接打破了日本的垄断，弥补了国内的空白，但是最先进的光刻胶是EUV光刻胶。

国产芯片成为华为支援，188亿投入于芯片制造，成为下一个台积电

随着科技不断的发展，我们也可以在近些年来看到中国的一些变化。可以说美国的制裁在这两年给我们中国市场进行了众多的打压，这也致使很多优秀的企业遭受到了严重的危机。有压力就会有更大的动力，中国华为在逆境中成长，一步步地站了起来。也正是通过华为自身

最后是中微的蚀刻机。蚀刻机只是光刻机的零部件，但是尹志尧博士还是很了不起的，用了16年的时间，带领团队不断地攻关，跟踪国际最新动态，蚀刻设备是世界一流的水准，而且被最大的芯片代加工厂台积电认可，并投入使用，是仅次于阿斯麦的供应商。

可是尹志尧博士也无奈说出了实情，蚀刻机只是“画家”，难度说大不大，真正难的是“画家”。意思是蚀刻机还不是最难的，最难的是操控蚀刻机同步运作。这个难度就好比，两个人各自站在一架超音速飞行的飞机上，手上拿着一支笔要画出相同的东西来。

左：尹志尧

而且蚀刻只是芯片制造流程上的一个环节，在将硅晶圆切割成圆薄片后，涂上光刻胶之类的材料，这时候由光刻机进行光刻，使到光刻材料发生光敏作用，光刻完了以后再由蚀刻机将“电路”腐蚀出来等等，所以难的不是蚀刻，可是光刻的精度。

总结

原本以后，中微能够带来真正的好消息，没想到，尹志尧无奈说出了真相，现实就是这么残酷，除了蚀刻机以外，中国的半导体技术全面落后。

的确，“弯道超车”的确是言之过早，但是也不要妄自菲薄。就像任正非接受才采访说的那样，实际上，中国的芯片是被卡脖子不假，但是华为情况没有想象中的那么危险，因为华为出来手机等终端被美国卡芯片以外，其他基本上都可以自供。

而且任正非认为这个终端的芯片问题，华为在未来的两到三年里是可以取得突破的，问题很快会被解决。

而且最近中芯国际等在获得了国家大基金等投资以后，整个中国半导体的面貌焕然一新。所以别怕，总有一天会“弯道超车”的。