传来喜讯!中国启动代替计划,芯片制造关键材料实现量产

芯片制造新希望—紫光集团

在美国为首的打压下,我国芯片制造举步维艰。尤其是美国对华为的倾力打压,国人们终于看到了美国的狰狞面目。它不仅仅是打压华为企业,还把哈尔滨工业大学等研究机构列入所谓的实体名单。并且叫停中国不能使用美国技术,就在设计领域所谓EDA软件也全面禁止。

众所周知,在美国对我国企业停止芯片供应之后,我国很多企业纷纷加入了国产芯片的研发与生产建设之中。

如今中国芯片的发展卡在了芯片生产这一关口,具体来说体现自芯片的光刻这一环节,而这一环节的质量直接决定了芯片性能的高低,被称之为是半导体行业的灵魂所在,如今中国启动了代替性计划,芯片制造的关键性材料实现了量产。

这一关键性的材料就是光刻胶,同样是光刻程序中必备的一款材料,光刻胶与光刻机的地位是同等的,需要配合使用才能够完成这一流程,由于之前在芯片领域的起步较晚,这两两面的研发都是我们所不能松懈的。

只是相比较来说,光刻机由众多精细化的组件构成,其研发更为艰难,尤其是高端光刻机的研发,这也是荷兰的ASML企业多年来能够在该领域形成垄断的重要原因。

而相比较而言,光刻胶的研发就要顺利许多,尤其是在我国多加投入的背景下,国产光刻胶频频有喜讯传来,最先带来好消息的是苏州一家叫做瑞红的企业,该企业成功研制出了第二代光刻胶,并且实现了这一产品的量产。

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不久之后南大的光电研发所传来了跨越式的进展,研制出了第四代的光刻胶,可供当前我国所拥有的第四代光刻机使用。这代表着我国国产光刻胶正式走向了高端市场领域。

而根据最新的新闻报道,我国北京的科华企业声称该企业已然具备了第五代光刻胶的生产技术。这一光刻胶足以配备荷兰最为先进的EUV光刻机使用,这代表着我国在光刻胶领域正式追赶上了国际市场的脚步。

此前日本与韩国两个国家是先进光刻胶生产的垄断者,如今这一市场将加入中国企业,当然令人遗憾的是,当前我国还未拥有一台高端的EUV光刻机,之前与荷兰ASML达成的进口合作也已经告终,这是我国后续需要加倍努力的方向。

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