又一芯片关键材料实现量产，加速芯片制造业国产化进程

近段时间以来，美国通过各种手段，对我国企业停止供应芯片。我国芯片领域最为薄弱的环节是芯片的生产制造，主要卡在了光刻机这一环节。没有高端的光刻机，基本上无法生产出高端的芯片。

其实，不仅是光刻机，与其配套使用的光刻胶也是同样重要。只是光刻机的研发更为艰难，毕竟高端EUV光刻机是由众多精细化的组件构成的，制造工艺极为复杂，虽说高端EUV光刻机是荷兰的ASML公司所制造出来的。但是其背后是由美国、德国、英国、法国、日本等国家共同提供重要零部件与支持，这也是ASML能够在该领域形成垄断的主要原因。相比较来说，在光刻胶的研发上，我们进步很快，好消息不断而来。

北京科华微电子材料有限公司

目前苏州瑞红已经实现了第二代光刻胶的量产，南大的光电研发所更是研制出了第四代的光刻胶，可供当前我国所拥有的第四代光刻机使用，这也代表我国国产光刻胶正式走向了高端市场领域。

全球存储芯片的定义及市场发展格局走向

华为旗下海思，国产芯片领先者，成立于2004年10月，前身是创建于1991年的华为集成电路设计中心。 专注于消费电子、通讯、光器件等领域的高端光网络芯片制造，总部位于深圳，在北京，上海，美国和瑞典有设计分部，台湾联发科股份有限公司是全球著名IC设计厂商

而最近传来的消息称，我国的北京科华微电子材料有限公司，已经具备了第五代光刻胶的生产技术，足以配备荷兰ASML公司最先进的EUV光刻机使用，毫不夸张的说，光刻胶领域我们已然追赶上来了，打破了日本与韩国在先进光刻胶生产领域的垄断。

不管什么困难，要一步步克服。相信芯片的制造国产化，很快就会到来。