中国芯片或将换道超车?效率提升1000倍,不用再依赖国外了
继续前进!中科院首创2纳米芯片关键技术,还要依赖光刻机吗?
芯片是当前中国技术领域的热议话题,在美国的一再干扰以及中国企业的团结努力下,我国芯片技术的发展可谓一波三折,时而让人忧虑,时而让人振奋。 那么如今中国芯片技术究竟发展到了哪一程度,有消息称中科院首创了2纳米芯片的关键技术,这一技术在生产过程
国产芯片现状
今年5月份,特朗普和美国政府对我们国内的华为公司下达了全面升级的芯片禁令,旨在全面封锁华为的芯片供应。虽然美国这次的禁令看似只是针对华为,但是实则暗藏祸心,其真正目的还是为了遏制我们国产芯片的崛起!
就目前的情况来看,国产芯片的现状并不容乐观,因为与美国等发达国家相比,我们国内在芯片领域还处于比较落后的水平。就拿芯片生产方面来说,目前国内最先进的生产精度为28nm,但是国外技术已经达到了5nm,这其中的差距不言而喻!
可能很多人都不理解这个几nm的精度从何而来?而我们国内又为什么不能突破到更高的精度呢?其实芯片的nm级精度和光刻机的精度是对应的,也就是说,只有更先进的光刻机,才能生产出更高精度的芯片。
所以说,光刻机技术水平的高低决定着芯片技术实力的强弱,而我们国内芯片水平落后的主要原因就在于缺少高端光刻机技术的支持!目前国内最高端的光刻机来自于上海微电子,其精度在28nm,距离ASML公司的5nm光刻机还有着很大的差距。
作为人类工业史的智慧结晶,光刻机是各种高端技术的集合体,不是某个公司或国家就能单独攻克的,就连ASML公司也是集欧洲和美国之力才能生产出高端光刻机的。由此可见,光刻机技术的难度之高超乎我们的想象,而我们国内想要在这方面实现弯道超车,基本上是不可能的事!
芯片行业的一个基本认知
今天中芯国际上市,股市血洗,很多人认为中芯国际市值太大高估了,压垮了A股。 主要是认为:中芯国际在5nm、7nm先进制程方面和台积电差距很大,又被美国恶意限制,短时间追上去的希望渺茫,成为中国芯片制造龙头成色不足。 看法对不对,不好说。 就芯片行业,
既然弯道超车的法子行不通,那么我们国内能做的就只有“换道超车”了,因为国产芯片急需改变依赖国外技术的现状。只有实现技术超越,才能真正地摆脱美国的限制措施,也能为华为带来转机!
换道超车不是梦!
弯道超车已经很困难了,那么换道超车自然是更加艰难,但是世上无难事只怕有心人,在我们国内科研人员的努力下,国产芯片已经看到了换道超车的希望!
据国内媒体爆料称,目前我们国家的科研人员已经寻找到了一种新型的半导体材料,可以很好地代替硅基来制成芯片,这种材料名为石墨烯,也就是我们常说的碳基半导体材料。
关于石墨烯芯片,其实国内外早就有所研究,但是一直苦于无法突破。不过近日国内科研人员已经在这方面实现了技术突破,剩下的只是量产罢了,这对于国产芯片来说是一个非常好的消息,因为碳基芯片为我们提供了一个新的研究方向。
此外,除了碳基芯片之外,我们国内在光子芯片领域也取得了重大突破。值得一提的是,相比于传统的芯片来说,光子芯片具有着很大的优势,效率提升了1000倍,并且性能及功耗方面都更加完善了。
由此可见,如果我们国内继续朝着碳基芯片和光子芯片的方向努力的话,那么中国芯片或将实现换道超车,不再依赖国外技术,这也是每一个中国人都希望看到的局面!
对于国产芯片的未来,你们怎么看呢?欢迎留言和关注!
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