“中国芯”再上一层楼！没有ASML的光刻机，也能造出7纳米芯片？

大家都知道，在全球市场上，具备生产EUV光刻机技术的企业，只有荷兰的ASML，根据其最新发布的数据显示，目前已经在全球市场出货了57台EUV光刻机了，这直接向全球市场彰显了自己实力的强大。

同时也是向外发出一个信号，即便出台了如此多的光刻机，也没有办法把中芯国际两年前下单的光刻机发货过来。据了解，EUV光刻机是指使用13.5纳米的紫光线光源，生产7纳米或以下工艺制程芯片的机器，全球任何一家芯片制造商都需要从ASML购买，而且别无选择。

根据相关消息，这57台光刻机全部发货给三星、台积电和英特尔了，受到美国技术的影响，国内任何一家芯片制造商，想要获得ASML的光刻机都是难上加难的事情，现在“中国芯”已经进入到7纳米阶段了，但是没有光刻机就没有办法实现突破。

但是中芯国际突然宣布，“中国芯”或将再上一层楼，也就是没有ASML的光刻机，也能造出7纳米芯片来，这是真的还是假的？实际上，中芯国际并不是直接造出7纳米的芯片，而是采用了N+1技术。

芯片利好没兑现，上涨趋势还会延续吗？

昨晚收盘之后，芯片半导体迎来大利好，国务院印发《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》。 这是首次将集成电路放到了首位和最重要的位置，特别是在减免所得税、增值税上，力度很大。较之前的减税政策，这次力度更大。 提到半导体芯片，就

相较于14纳米芯片来说，性能提升了20%，但是功耗却降低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积也减少了55%，按照这个逻辑看，和台积电生产的7纳米芯片差别确实不大，但是频率会大大降低，所以并不会强于台积电生产的7纳米，仅仅相当于台积电的10纳米工艺。

所以话说回来，中国芯片制造商想要突破7纳米工艺，还是需要光刻机加持的，不然美国就不会大费周折的来打压华为了。但这并不代表没有任何解决的办法，只是相较于真正的工艺技术会有所差距罢了。

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