国产芯片再迎利好!中国成功研发5纳米蚀刻机,已正式供货台积电

振奋!5年后中国要实现70%的芯片自给,高通们准备好了吗?

随着美国在全球掀起一波“腥风血雨”,中兴、华为的现实遭遇,才让中国人意识到小小的芯片,竟成了民族复兴道路上的最大“绊脚石”。 刚开始,中国本有机会打造属于自己的芯片,甚至中芯国际还一度与老大哥台积电平分秋色。然而在西方的打压下,加上芯片技术

图文|科技蜂鸟

前不久,中国芯片设备龙头企业中微半导体设备公司(AMEC)召开了2019业绩说明会,会上,中微公司董事长、总经理尹志尧博士正式宣布:

公司的等离子体刻蚀设备已应用在国内外知名厂商 55 纳米到 5 纳米的众多芯片生产线上;特别是中微的电容性 CCP 等离子体刻蚀设备,已在国际领先的晶圆生产线核准 5 纳米的若干关键步骤的加工

很明显,这里的“国际领先”的客户就是指台积电,因为目前全世界能量产5纳米芯片的只有它一家

太好了!中微半导体能够为台积电提供高端蚀刻机,证明其实力已经属于业界领先!

60岁回国创业,默默耕耘13年,做出世界首台5纳米蚀刻机

说起中微半导体,不得不提它的创始人尹志尧,1980,北大毕业硕士毕业的尹志尧只身前往加利福尼亚大学洛杉矶分校留学,四年后获得了物理化学博士学位

随后的十几年里,尹志尧在硅谷Intel公司等多家公司供职,曾在世界最大的半导体设备企业——美国应用材料公司担任总公司副总裁,他个人先后获得了86项美国和国外的专利,被誉为“硅谷最有成就的华人之一”

2004年,漂泊半生的尹志尧已经年过60,思来想去,他决定回国创业,他说:“我们给外国人做嫁衣,已经做了很多事情了,那我们应该给自己祖国的人民做一些贡献,所以下定决心要回来

尹志尧知道国内缺半导体技术和人才,所以他没有空手回来,而是带回了15位硅谷主流半导体设备产业的资深华裔工程技术和管理人员,包括钱学煜、倪图强等不少该领域资深专家,平均拥有十七年的管理与开发经验,共获得超过200项美国专利

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“除了胜利,华为已经无路可走!” 这是任正非去年接受采访时对记者说的一句话,作为华为的创始人,任正非当年在走投无路的情况下创办了华为,然后带领华为一点一点发展壮大。30多年来,任正非对华为倾注了大量的心血,可以说,任正非对华为的感情不亚于对子

回国后,尹志尧成立了上海中微半导体设备公司,从此之后就埋头苦干专攻蚀刻机技术。4年之后,中微半导体就掌握了10纳米蚀刻机技术,又过了9年,中微半导体再次突破5纳米蚀刻机技术,做出世界首台5纳米等离子蚀刻机!

如今日本、韩国等半导体强国总共40多条芯片生产线已经用上了中国蚀刻机,从7纳米蚀刻机开始,中微半导体也成功打入了台积电的供应链!

厚积薄发,中微半导体领先的不只有蚀刻机

大家知道,芯片是由整块的晶圆分割出来的,常见的晶圆有12英寸的和8英寸的

制造晶圆是人类目前为止最复杂的技术,整个过程包括上千个步骤,总共可以分为七大生产链条:

扩散(Thermal Process)--扩散炉光刻(Photo- lithography)--光刻机刻蚀(Etch)--刻蚀机离子注入(Ion Implant)--离子注入机薄膜生长(Dielectric DeposiTIon)--薄膜沉积设备抛光(CMP)--化学机械抛光机金属化(MetalizaTIon)--清洗机

在西瓜视频创作人『52赫兹实验室』的科普视频中曾经介绍过,由于光刻、刻蚀、沉积等流程在芯片生产过程中需要20到50次的反复制作,技术难度大,精度要求高,被称为芯片三大核心技术

目前,尹志尧领导的中微半导体不光在蚀刻机上达到国际领先水平,在薄膜沉积设备(MOCVD)也有很强的实力,其生产的氮化基LED的 MOCVD设备占据着全球60%以上的市场,用于Mini LED、Micro LED和功率器件的MOCVD设备也在研发生产中

写在最后

芯片制造设备代表着各个国家最高的科技水平,一直以来,大家都比较关注荷兰ASML的极紫外光刻机,但是同为“芯片制造三大核心设备”之一的蚀刻机薄膜沉积设备却很少有人提及,如今中国逐渐掌握了蚀刻机沉积薄膜设备的核心技术,给未来增添了很多变数,可以预见的是,中微半导体的崛起只是刚刚开始,后面还会有更多惊喜

现在中微半导体的5纳米蚀刻机正式供货台积电,尹志尧博士他们早就投入了更先进的3纳米蚀刻机的研制,朋友们肯定很想知道,中微半导体的3纳米蚀刻机目前是什么进展?蚀刻机的研发速度能否走在光刻机前面?蚀刻机有可能被光刻机取代吗?赶紧打开西瓜视频搜索『52赫兹实验室』去了解最新动态吧,西瓜视频给你最新资讯,带你一起涨知识~

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