中国芯片将发生巨变，不再受光刻机限制，中芯国际传来好消息

众所周知，随着我国科技水平不断提高，但关键核心技术还依旧掌握在欧美手中，特别半导体一直受到国外的垄断和打压，而随着我国对芯片的需求急剧增加和消耗大，一旦国外对此采取断供，那么我国信息产业将会受到毁灭性打压。虽然我国芯片很大部分来自台积电，但始终摆脱不了美国的干预，对我国实施打压。而作为大陆第一大芯片生产基地的中芯国际，正处于发展阶段。

虽然我国在片设计及封装测试方面，不断取得新突破，逐渐拉近国际水平。但距离国际顶尖水平还有一段距离，在芯片制造企业至少落后3-5年，在芯片工艺制程落后3代。就是在这样子的条件下，中国坚持打造属于自己的“芯”，特别经历中兴华为事件，很多企业把“芯”当成未来发展方向。

与台积电相比，中芯国际发展道路要坎坷多，在当时要技术没有没有技术，要人才没有人才，因为国外对此类技术严格把守，一切只能靠自己去摸索，当然离不开政府的大量的资金投入，以及很好利用“市场化运作”才闯出了一片天。

华为中兴深耕芯片多年，为什么中国芯片依然不尽人意？原因在这里

导读：中国是世界第一大芯片进口国，每年要进口3000亿美元芯片。芯片一直是中国人的软肋，但是国人一直都没有重视。从美国制裁中兴到围剿华为，已经使国民认识到了芯片的重要性。虽然中兴、华为和中芯国际在芯片行业耕耘多年，为什么中国芯片行业的发展不尽人

从28nm到14nm，再到现在的7nm工艺，如果不是美国从中阻挠，荷兰ASML公司未能及时交付EUV光刻机，可能中芯国际现在已经取得了更大的成就。大家都知道，芯片的升级离不开先进的光刻机，台积电为什么在芯片工艺处于领先地位，其中源于荷兰光刻机给予和扶持力度大。相反中芯国际就没有那么幸运。

中芯国际要想在芯片有一片天地，就必须越过光刻机，否则难有机会。这一次中芯国际向世界证明了自己的实力，越过光刻机，冲刺7nm。改良后的中芯国际N+1，与 与市场上的7nm相比，在功耗、稳定性方面非常相似，唯一的区别就是性能，N+1的性能比14nm提高了约20％。这在追赶世界领先企业就更进一步，填补了我国在7nm芯片市场完全空白的窘境。

​对于早已实现7nm工艺台积电自然不甘与中芯国际站到同一起跑线上，开始对5nm、3nm工艺投入新的研发中。以此来保持自己的领导地位，不过随着未来的发展，国内芯片研发能力将与国际缩小距离。对此你怎么看呢？

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