中芯国际研发出N+1芯片，工艺接近7nm芯片，预计年底投产

在现在的发展过程当中，为了能够有一些更高技术来作为支撑实力，就会有很多方面的整体提升，在现在的一些制造领域其实最受大家关注的就是芯片技术，由于信息技术以及智能化更加融入人们的生活。

所以建议技术的突破也更受到大家的关注，但是我国的芯片制造企业谁有着比较大的缺陷，我国在芯片制造上发展比较慢，因此在技术研制上也是落后于其它国家的，虽然说我国现在在芯片制造领域有实力发展的台积电，以及后期发展已经跟上来的中心集团，但是整体的差距还是比较明显的。

芯片技术的在现在涵盖的​领域比较多，但是对实力的要求也更高，尤其是在它的基础制造机器光刻机上，现在拥有这一技术大触的就是荷兰的ASML公司。这家公司不论是在技术研制还是在产品开发等都是新建知识产业的大佬，我国也从他们公司进了一些光刻机，但是却并不是大家一直期待的EUV光刻机。

这款光刻机是目前为止芯片制造领域最好的一种光科技，他们即使有了这样的研发能力，绝对不会将这一机器直接出口至其他国家！

中芯国际绕过ASML光刻机，造出N+1工艺芯片，预计年底量产

荷兰的ASML是我们都公认的世界上最厉害的芯片生产公司，相信很多小伙伴都知道这个公司他们并不能完全的完完全全的生产出一台光刻机所用的材料，据了解 他们生产一台光刻机的配件有90％是需要从其他国家进口的，但是他们还是保持着世界第一的位置。 我国前些年

因此想要得到这一款光刻机，也许只能在他们开发出新产品之后才有，但是为了能够在产业方面有所突破，我国的中芯集团就有一些新技术的投产。

梁孟松还透露中芯国际最新研发出了N+1和N+2工艺，这两种工艺非常接近目前最为流行的7nm工艺，7nm的芯片技术算是现在我国在集中投入研制的一个，而如果n+1和n+2的工艺能够完全的包揽这一技术，我们就不必再等荷兰的EUV光刻机进入中国就能够完成量产，这种不需要靠其他国家的及家属支持，在现在发展的模式也让大家更为期待。

其中N+1工艺计划于2020年年底正式投产，并且对比于传统的光刻机的技术而言，这样的芯片技术研制能够在性能上对芯片提高20%，在成本上也会大幅度的降低，更让大家开心的是这一技术是我们自己研发的。

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